杜昊 男
皇冠游戏网站(中国)有限公司副教授、硕士生导师
四川大学机械制造及其自动化专业博士（2011.9-2016.6）
瑞典Linkoping University等离子体物理与薄膜专业博士后（2019.9-2021.8）
英国University of Exeter交流学者（2022.10-2023.2）
电子邮件：hdu3@gzu.edu.cn
研究领域：
高功率脉冲磁控溅射技术
等离子体诊断
密度泛函理论计算
硬质涂层材料与性能
涂层刀具切削技术
分子动力学计算
招生信息：
课题组致力于探讨和研究等低温离子体、薄膜材料和性能、计算机辅助材料计算、刀具切削加工等交叉领域的基础科学问题，推动相关领域的实际应用和产业化发展。欢迎对本研究方向有兴趣的同学报考。
招生专业：
机械工程
机械设计
机械
教授课程：
机械制图（机类1）、机械制图（机类2）、机械制图（少学时）、工程材料及其成形技术基础
纵向项目（主持）：
国家自然科学基金（项目编号：52165021）
国家自然科学基金（项目编号：51805102）
贵州省科技计划项目（项目编号：黔科合基础[2020]1Y228）
皇冠游戏网站培育项目（项目编号：皇冠游戏网站培育[2019]25号）
贵州省教育厅青年科技人才成长项目（项目编号：黔教合KY 字[2017]108）
贵州省科技厅联合基金（项目编号：黔科合LH字[2017]7234号）
现代制造技术教育部重点实验室开放基金（项目编号：XDKFJJ[2016]01）
校企合作横向项目（主持）：
国机精工股份有限公司开放研发项目（项目编号：JG04KF0202301）
著作信息：
全部著作详见个人主页：
Google Scholar:https://scholar.google.com/citations?hl=en&user=Bigj9hsAAAAJ
ResearchGate：https://www.researchgate.net/profile/Hao-Du-9
ORCID:https://orcid.org/0000-0003-0663-8980
Scopus:https://www.scopus.com/authid/detail.uri?authorId=56896618400
近期代表作：
[1] H. Du, R. Shu, R. Boyd, A. le Febvrier, U. Helmersson, P. Eklund, D. Lundin, Evolution of microstructure and properties of TiNbCrAlHfN films grown by unipolar and bipolar high-power impulse magnetron co-sputtering: the role of growth temperature and ion bombardment, Surf. Coat. Technol. (2023) 129389.
[2] H. Du, M. Zanáška, U. Helmersson, D. Lundin, On selective ion acceleration in bipolar HiPIMS: A case study of (Al,Cr)2O3 film growth, Surf. Coat. Technol. 454 (2023) 129153.
[3] H. Liu, H. Du, G. Xian, Y. Chen, H. Dai, Ab-initio calculations of corundum structured α-(Al0.75Cr0.22Me0.03)2O3 compounds (Me = Si, Fe, Mn, Ti, V, and Y), Comput. Mater. Sci. 212 (2022) 111601.
[4] M. Zanáška, D. Lundin, N. Brenning, H. Du, P. Dvořák, P. Vašina, U. Helmersson, Dynamics of bipolar HiPIMS discharges by plasma potential probe measurements, Plasma Sources Sci. Technol. 31 (2022) 025007.
[5] H. Dai, W. Wu, W. Fan, H. Du, Investigation on mechanism of ultraprecision three-body polishing of single-crystal silicon carbide with voids by molecular dynamics simulation, Appl. Phys. A. 128 (2022) 1–19.
[6] H. Du, M. Zanáška, N. Brenning, U. Helmersson, Bipolar HiPIMS: The role of capacitive coupling in achieving ion bombardment during growth of dielectric thin films, Surf. Coat. Technol. 416 (2021) 127152.
[7] R. Shu, H. Du, G. Sadowski, M.M. Dorri, J. Rosen, M.A. Sortica, D. Primetzhofer, D. Lundin, A. le Febvrier, P. Eklund, Multicomponent TixNbCrAl nitride films deposited by dc and high-power impulse magnetron sputtering, Surf. Coat. Technol. 426 (2021) 127743.
[8] Z. Wang, W. Wan, J. Wang, K. Fan, Y. Li, J. Xiong, H. Du, Carburization and wear behavior of selflubricating Ti(C,N)-based cermets with various secondary carbides, Ceram. Int. 47 (2021) 26678–26691.
专利：
授权发明专利十余项。
合作情况：
与成都工具研究所、瑞典Linkoping University、法国Universite Paris-Sud、日本Tokyo Metropolitan University等研究机构有密切合作关系。